升溫均衡、精度更高、控制效果更佳
溫度均一化控制是通過(guò)對(duì)多個(gè)溫區(qū)的升溫速度的控制,從而避免溫度的超調(diào)和波動(dòng),可應(yīng)用于鋰電池真空烤箱、晶圓加工、光伏燒結(jié)爐、光伏烘干爐、注塑成型、壓縮成型、擠出成型、玻璃熱彎等行業(yè)。
溫控系統(tǒng)-溫度均一化解決方案
發(fā)布時(shí)間:
2025-04-30 13:14
來(lái)源:
系統(tǒng)原理
溫度均一化控制技術(shù)通過(guò)對(duì)多個(gè)溫區(qū)的升溫速度進(jìn)行控制,有效抑制相鄰?fù)ǖ篱g的相互干擾,同時(shí)能夠保證整個(gè)加熱過(guò)程中,各溫區(qū)間的溫差保持不變,實(shí)現(xiàn)對(duì)被控對(duì)象的均勻加熱,達(dá)到提高產(chǎn)品的加工質(zhì)量、降低能耗的效果。

控制方案
溫控系統(tǒng)一溫度均一化解決方案共分為兩部分,包括有均一化解耦與優(yōu)化部分(工藝層)、PID控制部分(控制層)。PID控制部分輕松保證加工速度;均一化解耦與優(yōu)化部分可確保多溫區(qū)耦合作用下,依舊實(shí)現(xiàn)包含過(guò)渡響應(yīng)在內(nèi)的溫區(qū)耦合均一性。
整個(gè)解決方案采取模塊化編程,將均一化工藝層與PID控制層進(jìn)行模塊化,可將工藝層靈活搭配信捷PID指令,滿(mǎn)足不同場(chǎng)景的客戶(hù)需求;整個(gè)過(guò)程調(diào)試時(shí)間短,僅需簡(jiǎn)單設(shè)定即可實(shí)現(xiàn)均一化參數(shù),輕松解決加熱不均勻問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)每個(gè)溫區(qū)升溫速度的統(tǒng)一。

方案優(yōu)勢(shì)
升溫均衡 升溫均衡,對(duì)多個(gè)溫區(qū)進(jìn)行同步控制,實(shí)現(xiàn)不同溫區(qū)的均勻加熱 | 抑制溫差 抑制溫差,不同溫區(qū)之間的差值是傳統(tǒng)PID方案的1/5 | 低超調(diào)量 低超調(diào)量,不同溫區(qū)同時(shí)到達(dá)溫度目標(biāo)值,超調(diào)量更?。?/td> |
低穩(wěn)態(tài)誤差 低穩(wěn)態(tài)誤差,在恒溫階段的溫度波動(dòng)是傳統(tǒng)PID方案的1/5,控制效果更佳 | 高精度溫控 高精度溫控,采集精度:0.3%,采集分辨率:0.01℃ | 調(diào)試更便捷 易調(diào)試,采用模塊化封裝的指令,配合專(zhuān)用調(diào)試軟件,調(diào)試更加便捷 |
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